面向半导体、平板显示、光伏等电子制造湿法环节的超净高纯试剂与功能液。先看主推品,再按工艺需要深入沟通规格。
多为单组分、大批量使用的超净高纯试剂,常见于清洗等基础工序。
氧化性清洗与复配体系常用组分;生产基地具备 G5 级相关资质。
酸性湿法清洗与表面处理中用量较大的通用试剂之一。
碱性清洗体系常见组分,常与双氧水等按工艺复配沟通。
刻蚀与清洗相关湿法环节中的关键酸类试剂。
通用酸性试剂;可与氢氟酸等讨论混酸体系。
电子级溶剂,常用于清洗、脱水干燥等相关沟通。
更多通用试剂(手册收录,可继续沟通)
按工艺场景复配的功能液。按工艺场景做匹配与验证。
面向刻蚀相关湿法场景,具体体系需按客户工艺对齐验证。
面向清洗相关湿法场景,以规格约定与产线验证为准。
光刻显影相关;须与光刻胶体系匹配验证。
剥离 / 去胶相关;须与胶系匹配验证。
涂胶前 / 工艺后清洗等场景沟通入口。
硅 / 铝 / 铜 / 氧化物等刻蚀场景沟通入口。
先约定规格书指标,到货核对批次检测报告,关键制程再做小试或产线验证。
检测报告说明这一批测到了什么;规格书约定双方长期要守住的标准。